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面議型號
Phenom Pro品牌
飛納產地
荷蘭樣本
暫無探測器：
BSD, SED (可選), EDS (可選)加速電壓：
4.8kV-20.5kV連續可調電子槍：
CeB6電子光學放大：
350,000X光學放大：
27-160X分辨率：
優于 6nm看了飛納臺式掃描電鏡高分辨率版 Phenom Pro的用戶又看了
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第六代 Phenom Pro 放大倍數提升為 350,000 倍，分辨率優于 6 nm，30 秒快速得到表面細節豐富的高質量圖像，可用于測量亞微米或納米尺度的樣品；飛納高分辨率專業版 Phenom Pro 繼承了飛納電鏡系列高分辨率、15 秒快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、全自動操作、2-3 年更換燈絲及防震設計等優點。
飛納高分辨率專業版 Phenom Pro 可選配豐富的拓展功能選件，如 3D 粗糙度重建（3D Roughness Reconstruction）、纖維統計分析測量系統（FiberMetric）、孔徑統計分析測量系統（PoreMetric）、顆粒統計分析測量系統（ParticleMetric）、超大視野拼圖（Auto Image Mapping）、遠程操作等。軟件可以自動采集數據、處理圖片。比如，纖維統計測量系統可以自動識別、測量纖維樣品，而大視野拼圖 則自動采集生成高分辨、大視野的樣品全景照片，等等…
除此之外，還有各種各樣的樣品杯可供選擇，這些樣品杯使得樣品的裝載更加便利。無論是對于長軸狀樣品，還是生物材料，或者其它種類的材料，總有一款合適的樣品杯可以提供**的解決方案。
Phenom Pro 主要技術參數
| 光學放大 | 20 - 135 X |
| 電子放大 | 350,000 X |
| 分辨率 | 優于 6 nm |
| 光學導航相機 | 彩色 |
| 加速電壓 | 4.8 kV - 20.5 kV 連續可調 |
| 探測器 | BSD, SED (可選), EDS |
顆粒統計分析測量系統
顆粒統計分析測量系統軟件可以輕松獲取、分析圖片，并生成報告。借助該軟件，用戶可以收集到大量亞微米顆粒的形貌和粒徑數據。憑借遠超光鏡的放大倍數，顆粒軟件全自動化的測量，可以把工業粉末的設計、研發和品管提升到一個新臺階。
借助顆粒系統軟件，用戶可隨時獲得數據。因此，它加快了分析速度，并提高了產品質量。
臺式掃描電鏡在粉末冶金領域的應用
1. 粉體形貌、粒度觀察（<10000×，低壓 SED）
2. 粉體粒度統計（使用飛納電鏡軟件-顆粒統計分析測量系統）
3. 燒結件缺陷檢查（使用飛納電鏡軟件-超大視野自動全景拼圖）
4. 成品表面質量檢查+雜質判定（掃描電鏡+能譜）
5. 脫脂前后形貌觀察
顆粒統計分析測量系統
2020-12-09
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